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日本QED自由曲面抛光设备Q-FLEX 300型
2023-01-06 09:54:32

Q-flex系统提供了MRF精加工的所有传奇决定因素,以及模块化、生产就绪平台的灵活性和可重复性,帮助您更智能地制造。Q-flex系统提供了前所未有的制造能力,尤其是在困难的领域,如自由曲面和自由曲面。

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柔性技术

模块化MRF头设计,实现快速无工具转换。

流体控制模块(FCM)提供了改进的流体稳定性、校准和可重复性能,以及快速更换流体和易于清洁。

QED.NET软件具有易于使用的向导,可完全配置,以实现任何级别的操作员技能的最佳吞吐量。

 

Q-FLEX 300型

灵活的体系结构

Q-flex系统的头部和FCM在家族平台中是通用的,可以在Q-flex机器之间共享。几分钟内,MRF头的尺寸可以从10毫米、20毫米、50毫米和150毫米改变,以满足您的抛光需求。

 

为卓越而设计

Q-flex系统的模块化意味着您可以将机器与您的工作量相匹配,为您的精密光学车间带来更高的效率。Q-flex系统设计用于面向生产的环境。

 

Q-flex系统提供了MRF精加工的所有传奇决定因素,以及模块化、生产就绪平台的灵活性和可重复性,帮助您更智能地制造。Q-flex系统提供了前所未有的制造能力,尤其是在困难的领域,如自由曲面和自由曲面。

 

几分钟内,MRF头的尺寸可以从10毫米、20毫米、50毫米和150毫米改变,以满足您的抛光需求。

 

可以选择抛光头以优化抛光工具尺寸(光斑)、凹形零件半径、自由形状等。

头部可以快速和动态地调整为旋转、光栅或自由形式模式。

通过内置探测站自动调整头部。

头部推车用于高效操作和方便的零件存储。

清洁后设置更快、更容易,具有更高的日常和操作员对操作员的重复性。

流体控制模块(FCM)将流体输送系统硬件和控制装置安装在一个组件中。

 

使用多个FCM,流体转换可以在几分钟内完成。

MRF流体可保持在基础机器内或远离基础机器的旁路中。

清理很简单:FCM安装在轮子上,可以移动到清洁站。

使用新的EFMS(电子流体监测系统)流体控制系统,您可以获得更好的流体强度控制。

R-FLEX 300型

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咨询电话:135 2207 9385

 

Q-FLEX 300型

传奇的MRF功率和精度

“绕轮”虚拟轴技术,实现真正的自由抛光。

 

抛光模式

选择最适合您需求的抛光模式!

旋转和自由旋转抛光

零件尺寸高达:~300 mm*

半角最大90度

零件孔径:圆形

旋转模式:

零件形状:平面、球体、非球面

自由旋转模式:

零件形状:环形、离轴非球面、自由形式

光栅和自由光栅抛光

零件尺寸高达:~300 mm x 300 mm*(根据几何形状,可获得较大的零件)

零件孔径:圆形、矩形、六边形、椭圆形、通过位图孔径定义的客户形状

光栅模式:

零件形状:平面、圆柱体、棱柱

最大90度的半角(仅限气缸)

自由形式光栅模式:

零件形状:球体、非球面、环形、离轴非球面、自由形式

在X方向上最大为90度,在Y方向上为30-45度的半角(取决于车轮)

人体工程学零件加载

允许符合人体工程学的零件安装和对齐。

安装并对中后,移动到反向抛光位置。

 

技术规范:

最小凹曲率半径**

150mm封头    105毫米CCV

50mm封头     35毫米CCV

20mm封头     14毫米CCV

10mm封头     7毫米CCV

 

最大半角(使用“绕轮”功能时)

150mm封头    30度

50mm封头     45度

20mm封头     40度

10mm封头     40度

 

机器规格:

最大工件重量*      18.8 kg(包括透镜架)

工件附件           真空卡盘

各轴               X、 Y、Z、A***、B***+虚拟轴

人机界面           HMI用户界面,带有触摸屏/QED.NET软件,标准PC运行Windows®10

MRF抛光液         与QED全系列MR流体兼容,包括C10+、C12、C30、D10、D11和D20。

机器占地面积       1.91 m宽x 3.23 m深

所需最小占地面积   2.84 m宽x 4.32 m深

机器安装高度       2.33 m高

机器总重量         4082千克(估计)

压缩空气(分钟)****6巴,85ℓ/分钟,干燥并过滤至10µm

 

电气部分

选项1   200-220 VAC,50/60 Hz,30A,3ph+PE(4线)

选项2   400 VAC,50/60 Hz,15A,3ph+N+PE(5线)

 

典型能力

形状/图形校正

高度收敛性        在1次迭代中提高5-10倍

不合乎常规的行为  低至λ/30-λ/40(PV)或更低,受计量再现性限制

 

粗糙度改善

微观粗糙度   在大多数具有任何MR流体的材料上<1 nm rms/在大多数具有特定MR流体的玻璃和单晶上<0.5 nm rms;

超低微粗糙度  在某些具有特定MR流体的材料上可达到0.1-0.2 nm rms。

 

表面质量/完整性改善

提高抗激光损伤能力

清除地下损坏

消除应力

去除雾霾,敏感眼镜上的精细化产品

 

为特殊目的诱导特定的形式/图形

通过仅抛光1个表面来校正透射波前误差

校正棱镜角度误差

正确的薄膜厚度变化

创建“相位板”或引起其他特定畸变表面误差

 

*请注意,

工件几何形状和重量规格是用作一般指南的近似值。由于难以量化的其他因素,例如工件惯性,在某些情况下确实可以运行该范围之外的零件,以及在所有情况下都可能无法运行的该范围内的零件。当尝试超出这些限制的零件时,请小心,或联系QED以获得进一步指导。

**半径范围取决于特定零件几何图元和头部几何图元

***可用轴取决于购买的选项

****3/8“最小空气管道,1/4 NPT内螺纹(连接由客户提供)


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